ਅਣੂ ਬੀਮ ਐਪੀਟੈਕਸੀ ਇੱਕ ਉੱਚ ਵੈਕਿਊਮ ਜਾਂ ਅਤਿ-ਉੱਚ ਵੈਕਿਊਮ (1 x 10) ਵਿੱਚ ਕੀਤੀ ਗਈ ਸੀ।^-8ਪਾ) ਵਾਤਾਵਰਣ। ਅਣੂ ਬੀਮ ਐਪੀਟੈਕਸੀ ਦਾ ਸਭ ਤੋਂ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਪਹਿਲੂ ਇਸਦੀ ਘੱਟ ਜਮ੍ਹਾ ਦਰ ਹੈ, ਜੋ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਫਿਲਮ ਨੂੰ ਐਪੀਟੈਕਸੀਅਲ 3000 nm ਪ੍ਰਤੀ ਘੰਟਾ ਤੋਂ ਘੱਟ ਦੀ ਦਰ ਨਾਲ ਵਧਣ ਦਿੰਦੀ ਹੈ। ਇੰਨੀ ਘੱਟ ਜਮ੍ਹਾ ਦਰ ਲਈ ਹੋਰ ਜਮ੍ਹਾ ਵਿਧੀਆਂ ਵਾਂਗ ਸਫਾਈ ਦੇ ਪੱਧਰ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਕਾਫ਼ੀ ਉੱਚ ਵੈਕਿਊਮ ਦੀ ਲੋੜ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।

ਉੱਪਰ ਦੱਸੇ ਗਏ ਅਤਿ-ਉੱਚ ਵੈਕਿਊਮ ਨੂੰ ਪੂਰਾ ਕਰਨ ਲਈ, MBE ਡਿਵਾਈਸ (Knudsen ਸੈੱਲ) ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਕੂਲਿੰਗ ਲੇਅਰ ਹੈ, ਅਤੇ ਗ੍ਰੋਥ ਚੈਂਬਰ ਦੇ ਅਤਿ-ਉੱਚ ਵੈਕਿਊਮ ਵਾਤਾਵਰਣ ਨੂੰ ਤਰਲ ਨਾਈਟ੍ਰੋਜਨ ਸਰਕੂਲੇਸ਼ਨ ਸਿਸਟਮ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਕੇ ਬਣਾਈ ਰੱਖਿਆ ਜਾਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ। ਤਰਲ ਨਾਈਟ੍ਰੋਜਨ ਡਿਵਾਈਸ ਦੇ ਅੰਦਰੂਨੀ ਤਾਪਮਾਨ ਨੂੰ 77 ਕੈਲਵਿਨ (−196 °C) ਤੱਕ ਠੰਡਾ ਕਰਦਾ ਹੈ। ਘੱਟ ਤਾਪਮਾਨ ਵਾਲਾ ਵਾਤਾਵਰਣ ਵੈਕਿਊਮ ਵਿੱਚ ਅਸ਼ੁੱਧੀਆਂ ਦੀ ਸਮੱਗਰੀ ਨੂੰ ਹੋਰ ਘਟਾ ਸਕਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਪਤਲੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਦੇ ਜਮ੍ਹਾਂ ਹੋਣ ਲਈ ਬਿਹਤਰ ਸਥਿਤੀਆਂ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ। ਇਸ ਲਈ, MBE ਉਪਕਰਣਾਂ ਲਈ -196 °C ਤਰਲ ਨਾਈਟ੍ਰੋਜਨ ਦੀ ਨਿਰੰਤਰ ਅਤੇ ਸਥਿਰ ਸਪਲਾਈ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰਨ ਲਈ ਇੱਕ ਸਮਰਪਿਤ ਤਰਲ ਨਾਈਟ੍ਰੋਜਨ ਕੂਲਿੰਗ ਸਰਕੂਲੇਸ਼ਨ ਸਿਸਟਮ ਦੀ ਲੋੜ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।